据《科创板日报》报道，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在官网发布声明称，荷兰政府今日公布了浸润式DUV光刻机出口新规，称次先进DUV出口需获得荷兰政府许可，自9月7日起生效。先进光刻机主要是NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻机，这类光刻机单次曝光能实现28nm的制程，四重曝光就能实现7-5nm的制程，但是这类光刻机早就在美国跟荷兰的管制名单里了，早就买不到了。次先进光刻机主要是NXT:1970i和1980i DUV光刻机，这类性能低一些，单次曝光实现不了28nm，也很难通过多重曝光实现7nm，这类光刻机之前在美国管制名单里，但是不在荷兰政府的管制名单里。现在荷兰的新规就是将管制口径调整到跟美国政府一致，将次先进光刻机也纳入管制，所以将导致我国进口次先进光刻机进一步受限。以下A股光刻机概念股一览：
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