国产DUV光刻机在列！工信部印发重大技术装备推广指导！（微信文章未删减版）

主要观点总结

文章介绍了关于ESD与Latch-up数字中后端课程DFT设计与实现的理论和实践课程，同时提到了工业和信息化部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中包含了国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机的相关内容。文章还简要介绍了光刻机的发展历程。

关键观点总结

关键观点1: ESD与Latch-up数字中后端课程介绍

文章提供了关于DFT设计与实现的理论和实践课程的信息，这些课程对于数字中后端设计非常重要。

关键观点2: 《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（ 2024 年版）》发布

工业和信息化部发布了一份包含国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机内容的指导目录，这些装备属于国内实现重大技术突破、拥有知识产权但尚未取得明显市场业绩的装备产品。

关键观点3: 光刻机的发展历程

文章简要介绍了光刻机从第一代到第六代的发展历程，包括各代光刻机的波长变化和技术特点。

正文

重磅新课！

ESD与Latch-up	数字中后端课程
DFT设计与实现(理论)	DFT设计与实现(实践)

近日，工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知。

“工信微报”介绍道，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

值得注意的是，在重大技术装备文件列表中包含了国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩(ArF)光刻机（65nm）的内容。

其中氟化氩光刻机，光源为193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

目前来说，光刻机共经历了六代的发展，从最早的 436nm 波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 ArF 光刻机，属于干式DUV光刻机。第五代是ArFi，即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。